金属学及金属工艺论文_磁控溅射法制备Au薄膜及-真空与低温

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金属学及金属工艺论文_磁控溅射法制备Au薄膜及

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文章摘要:针对空间滑动电接触金基润滑涂层在制备方法以及失效机理认识方面存在的不足，探索采用绿色磁控溅射法制备金薄膜。研究了偏压对薄膜微观结构、力学以及真空载流摩擦学性能的影响规律；建立了真空载流服役工况摩擦试验评价条件，可实现接触电流噪音的实时监测，进一步对比传统电镀金涂层，研究了其真空载流摩擦磨损行为差异、主要影响因素及作用机制。结果表明：在适中的偏压下，薄膜晶粒尺寸小，结构致密光滑，具有高的结合力、硬度、耐磨性以及低的接触电流噪音。相比于电镀法，磁控溅射法制备的金膜表现出明显光滑致密的结构特征，硬度、磨损率和接触电流噪音大幅改善。其中光滑致密的结构是抑制微电弧产生的关键因素，可有效减少电弧侵蚀失效。

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